Please return to your workstation ! : Eine Ausstellung in New York

Podrobná bibliografie
Vydáno v:Ästhetik & Kommunikation 33(2002)118, S. 55-60
Hlavní autor: Lee, Hyunseon (Autor)
Médium: Článek
Jazyk:German
Vydáno: 2002
Témata:
Příbuzné jednotky:In: Ästhetik & Kommunikation
Popis
Signatura:MAG ZS Ästh 2002